白通社明斯克1月30日电 白通社报道。白俄罗斯总统亚历山大·卢卡申科在视察"普拉纳尔"开放式股份公司期间，出席了光掩模与微光学特种工艺设备中心的启动仪式。
光掩模是一种高精度模板（制作于玻璃或薄膜上），其上包含未来集成电路或印刷电路板的图案，用于光刻工艺中将图形转移到基板上。简而言之，没有光掩模就无法制造任何集成电路。
该新中心是前苏联国家境内唯一能够生产90纳米工艺水平制品的综合体，这对于制造先进电子机械设备样品至关重要。该中心也将作为测试企业自主开发新版本软件的试验平台。
中心的建立将使得光刻设备及光掩模制造设备的生产能够采用自主研发的部件实现自主保障。
所有前期准备、设计与施工安装工作均在极短时间内完成，从而使中心比原计划提前两年建成。
工程实验室大楼内经过全面改造，建成了用于生产微光学元件与光掩模的专用工艺设备中心。全球仅有少数国家具备此类设备的研发与制造能力，包括美国、日本及部分欧盟国家。值得一提的是，该中心配置的无缺陷光掩模制造设备线具有独特性——目前世界上尚无任何国家能够独立研发并生产组织光掩模完整工艺流程所需的全部电子机械工程激光设备门类。
考虑到未来发展，该中心具备进一步升级至更低技术节点（65纳米）的潜力，为此已规划对生产线进行补充配备。
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